一般來(lái)說(shuō)，在反應釜上部的氣相部位的金屬表面上介質(zhì)是以氣液二態(tài)形式共存的，即附著(zhù)在金屬表面上有液滴和氣態(tài)的介質(zhì)，它們的流動(dòng)性相對較差，其中液滴更容易粘附。液滴中的高濃度腐蝕介質(zhì)使金屬表面的鈍化膜遭到破壞。在鈍化膜遭到破壞的區域，其金屬表面與液滴中活性離子接觸形成腐蝕的起始點(diǎn)，即形成初始腐蝕坑，隨著(zhù)時(shí)間的推延逐漸形成如圖２所示的腐蝕狀況。
蝕孔通常沿縱向生長(cháng)，在表面出現可見(jiàn)的蝕孔之前需要一段很長(cháng)的孕育期，或數月或數年，主要取決于金屬材料和腐蝕介質(zhì)的種類(lèi)。當ph值增高時(shí)，出現高度局部孔蝕（呈加速趨勢），它是陽(yáng)極反應的一種獨特形態(tài)，是一種自催化過(guò)程，在蝕孔內腐蝕過(guò)程產(chǎn)生的條件既促進(jìn)又足以維持蝕孔的活性。金屬在蝕孔內的迅速溶解會(huì )引起蝕孔內產(chǎn)生過(guò)多的正電荷，其結果就使氯離子遷人以維持電中性蝕孑內高濃Ｌ度的氯化物水解，其結果產(chǎn)生高濃度的氫離子。以上這兩種離子都足以促進(jìn)大多數金屬和合金的溶解，其微小破損暴露的金屬表面成為陽(yáng)極，未破損處成為陰極，陽(yáng)極 電流高度集中，使腐蝕迅速向內發(fā)展形成蝕孔，蝕孔通過(guò)自身的促進(jìn)作用而生長(cháng)。因此，孔蝕常發(fā)生在介質(zhì)易滯留的部位。
蝕孔通常沿縱向生長(cháng)，在表面出現可見(jiàn)的蝕孔之前需要一段很長(cháng)的孕育期，或數月或數年，主要取決于金屬材料和腐蝕介質(zhì)的種類(lèi)。當ph值增高時(shí)，出現高度局部孔蝕（呈加速趨勢），它是陽(yáng)極反應的一種獨特形態(tài)，是一種自催化過(guò)程，在蝕孔內腐蝕過(guò)程產(chǎn)生的條件既促進(jìn)又足以維持蝕孔的活性。金屬在蝕孔內的迅速溶解會(huì )引起蝕孔內產(chǎn)生過(guò)多的正電荷，其結果就使氯離子遷人以維持電中性蝕孑內高濃Ｌ度的氯化物水解，其結果產(chǎn)生高濃度的氫離子。以上這兩種離子都足以促進(jìn)大多數金屬和合金的溶解，其微小破損暴露的金屬表面成為陽(yáng)極，未破損處成為陰極，陽(yáng)極 電流高度集中，使腐蝕迅速向內發(fā)展形成蝕孔，蝕孔通過(guò)自身的促進(jìn)作用而生長(cháng)。因此，孔蝕常發(fā)生在介質(zhì)易滯留的部位。
